

根据参考图帮我生成一个模式图,结构类似参考图,具体内容如下:1. DNA四面体(TDN)的合成 将四条等摩尔比的单链DNA(S1、S2、S3、S4)混合于TM缓冲液(含Mg²⁺)中,进行退火反应:95℃加热10 min,随后迅速降温至4℃并维持20 min,自组装形成DNA四面体(TDN)。 2. FA-ssDNA偶联物的合成(TF合成) 将预先活化的FA-NHS酯与氨基修饰的DNA单链(S2)在碳酸氢钠缓冲液(pH 8.5)中混合,室温避光条件下振荡反应2~4小时或过夜,通过形成稳定的酰胺键,得到FA-ssDNA偶联物。 3. TFsa-P20纳米粒子的合成 将saRNA与含有粘性末端的单链S3、S4进行杂交连接,同时将上述FA-ssDNA(S2修饰链)与其他链共同参与四面体组装。随后加入带正电的多肽P20,P20通过静电吸附作用附着于DNA四面体框架结构表面。反应条件为室温孵育30 min,形成TFsa-P20纳米粒子。 4. TFsa-P20@Lip NPs的最终封装 采用共挤出法,将TFsa-P20纳米粒子包裹于具有ROS响应性的脂质体中。该脂质体膜上嵌有DSPE-PEG-VCAM1抗体。经过共挤出处理后,得到最终纳米材料TFsa-P20@Lip NPs。
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