1. 布局与构图删除所有蓝色虚线外框，利用画面留白

1. 布局与构图删除所有蓝色虚线外框，利用画面留白分割区域，增加通透感。 严格对齐左侧3D示意图与右侧图表组的上下边缘，保持视觉平衡。 移除“Photovoltage Mapping”顶部标题，将信息融合至图例，减少文字干扰。 2. 色彩与字体全图字体统一为 Arial 或 Helvetica，字号分级（标题加粗、标注变细）。配色去高饱和度（纯红/纯绿），Laser区域统一使用警示橙红，Low-Damage区域统一使用深青蓝或高级灰。 3. 左侧示意图：强化质感 Laser Dicing： 激光束增加外发光效果，SEM图中的热损伤层覆盖半透明红色色块，直观展示损伤深度。 Low-Damage： (110)解理面增加晶体质感（高光或微透明），体现原子级平整。 SEM图： 去除边框，比例尺文字移至图内右下角并改为白色细体。 4. 右侧数据与机制：突出核心 曲线拟合图： 背景叠加的电池模型透明度调至 15%以下（仅作极淡水印），避免干扰红色数据线。去除坐标轴的上边框和右边框。 机制示意图： 载流子（e⁻/h⁺）改为带高光的立体小球。路径线区分化：高效短路径用粗实线，低效长路径用细虚线。 5. 视觉元素：精细化 中间过渡箭头改为简约灰色宽箭头或渐变箭头，去除笨重感。 左侧“X”复合符号改为红色雾状云团，提升物理真实感。